Centamil 发布 Hayagreeva HEx 冷板:5000W+ 持续热移除,面向 AI 数据中心液冷

Centamil 发布首款 AI 热管理产品 Hayagreeva HEx 铜基冷板,经验证支持 5000W 以上连续热移除,额定热阻 0.005 °C/W。基于 4000+ m²/m³ 铜基湿表面积架构,面向功耗正快速攀升的下一代 AI 服务器芯片。

Centamil 今天正式发布了旗下首款 AI 热管理产品——Hayagreeva HEx。这是一款铜基(copper-matrix)冷板,专为 AI 数据中心基础设施设计,经验证可实现 5000W 以上的持续热移除,其额定热阻为 0.005 °C/W。该产品直接瞄准下一代 AI 服务器芯片,这些芯片的功耗已超出当前量产冷板的承受能力。

据 Centamil 提供的数据,过去三年中 AI 加速器单芯片功耗从 300W 升至 1200W,而公开的硅片路线图显示未来 24 个月内将进一步达到 4400W 以上。量产冷却方案的发展速度明显滞后。Hayagreeva HEx 围绕超过 4000 m²/m³ 的铜基湿表面积架构构建,为此类功耗演进提供了充足的热设计余量。

“AI 硅片的发展速度已经超过了其上方散热方案的发展速度,”Centamil 创始人兼 CEO Praveen Kumar Gorakavi 表示。“我们打造 Hayagreeva HEx 正是为了即将发货的芯片。5000W 是我们已验证的数值;该架构还拥有更大的余量。”

Hayagreeva HEx 首席运营官 Sridhar Rao Julapally 补充道:“我们已经从验证阶段进入交付阶段:在签署意向书后的 4 至 6 周内,即可发货生产样品。”

Hayagreeva HEx 是一款可以直接用于芯片级液冷的冷板,兼容 NVIDIA、AMD 和 Intel 等主流 AI 加速器架构。该产品建立在 14 项专利申请之上,涵盖热架构、制造工艺和系统集成。目前 Centamil 已开放试点评估计划,面向合格的数据中心运营商、服务器 OEM 厂商和集成合作伙伴。

Centamil 是一家深度技术知识产权公司,专门开发并许可面向 AI 时代基础设施的下一代热管理与能源技术。其产品组合涵盖 AI 加速器的直接芯片液冷方案(商业化名 Hayagreeva HEx)、AI 嵌入式微反应器技术以及其他在研系统。如需进一步了解,可访问 Centamil 官方网站。

本文参考来源:美通社/PR Newswire (英文全量)



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