荷兰光刻机巨头ASML首席执行官富凯在比利时安特卫普出席科技活动时表示，持续收紧的对华光刻机出口管制非但无法遏制中国芯片产业发展，反而会倒逼中国加快自主研发替代设备的步伐。他用一个形象的比喻强调限制的反效果：“如果我将你放到沙漠里，告诉你今后再也没有食物来源了——你需要多久才开垦出自己的菜园？这是存亡的问题。”
出口管制反成催化剂
富凯此番言论的背景是美国国会今年4月提出的《硬件技术控制多边协调法案》（MATCH法案）。该法案要求荷兰、日本等盟国全面遵守美国出口管制措施，在现行极紫外光刻机（EUV）对华全面禁售的基础上，进一步将浸没式深紫外光刻机（DUV）等设备也纳入限制范围，甚至禁止为已售设备提供售后服务。荷兰政府已明确表示反对，认为该法存在不合理的域外管辖效力。
据富凯介绍，ASML目前向中国市场出售的DUV设备基于2015年的技术，对应八代之前的芯片制造工艺。他担忧，过度限制不仅损害全球半导体产业链稳定，而且可能导致管制措施失去原本意义。
在华业绩显著下滑
出口管制已对ASML在华业务造成直接冲击。ASML今年1月预计，公司2026年在华销售额占比将从去年的33%大幅下滑至20%。中国海关总署的数据也印证了这一趋势：今年第一季度，中国从荷兰进口的光刻设备同比下降24.3%。
业内分析认为，富凯的表态反映了欧洲科技企业对美国单边管制政策的担忧。若管制范围持续扩大，反而可能推动中国在半导体核心技术上加速自主化进程，最终使限制措施失去效果。
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