标签： 28纳米工艺

ASML与塔塔电子签署备忘录，为印度古吉拉特邦多莱拉在建的300毫米晶圆厂部署光刻设备。该厂是印度首座商业前端晶圆厂，总投资110亿美元，满产月产5万片。力积电授权28纳米等工艺节点，产品覆盖电源管理、显示驱动、MCU及高性能逻辑芯片。项目获印度中央及邦政府支持，试产目标定于2026年。