从缺陷到突破:三安光电联手西电等产学研力量,攻克氧化镓外延关键技术

三安光电联合西安电子科技大学、镓仁半导体在氧化镓同质外延技术取得关键突破,采用MOCVD法制备出高质量2英寸外延层,表面粗糙度低于0.5nm,电子迁移率达100 cm²/(V·s);基于此的横向功率器件击穿电压达1420V,开关比10⁵,具备向6英寸扩展基础,推动第四代半导体商业化。

三安光电联合西安电子科技大学、镓仁半导体在氧化镓同质外延技术取得关键突破,采用MOCVD法制备出高质量2英寸外延层,表面粗糙度低于0.5nm,电子迁移率达100 cm²/(V·s);基于此的横向功率器件击穿电压达1420V,开关比10⁵,具备向6英寸扩展基础,推动第四代半导体商业化。